مقاله ترجمه شده تخصصی برق از سایت IEEE

دسته بندي : جزوات درسی و مقالات » برق ، الکترونیک و مخابرات
این مقاله یکی از موضوعات جدید و بروز در ضمینه فین فت 10 نانومتر می باشد و مناسب همه دوره ها:کارشناسی،ارشد،دکتری برق می باشد.ترجمه بصورت کاملا روان بوده و اصلا ترجمه ماشینی در آن استفاده نشده.تمامی شکل ها و جداول بصورت مرتب و طبق ترتیب مقاله اصلی بوده و می تواند موضوع مقالات دروس مختلف دانشگاهی باشد.این مقاله از سایت معروف و شناخته شده IEEE می باشد.که معمولا تمامی اساتید با این سایت آشنا هستند.
تعداد صفحات مقاله اصلی هر صفحه دو ستون و با فونت ریز:4 صفحه
تعداد صفحات ترجمه:12 صفحه
فایل ها در قالب فرمت pdf می باشند.
عنوان لاتین مقاله:Study of Impact of BTI’s Local Layout Effect Including Recovery Effect on Various Standard-Cells in 10nm FinFET
عنوان فارسی مقاله:بررسی تاثیر طرح چیدمان محلی BTI شامل تاثیر بهبودی بر روی سلول های استاندارد مختلف در فین فت 10 نانومتر
دسته بندی: جزوات درسی و مقالات » برق ، الکترونیک و مخابرات

تعداد مشاهده: 1015 مشاهده

فرمت فایل دانلودی:.rar

فرمت فایل اصلی: rar

تعداد صفحات: 12

حجم فایل:1,351 کیلوبایت

 قیمت: 25,000 تومان
پس از پرداخت، لینک دانلود فایل برای شما نشان داده می شود.   پرداخت و دریافت فایل
  • راهنمای استفاده:
    برای استفاده از برنامه acrobat reader یا pdf reader ویندوز نیاز می باشد.


  • محتوای فایل دانلودی:
    pdf